Methodus chemica primo graphitum in oxydum graphiti per reactionem oxidationis oxidat, et spatium inter stratos auget introducendo greges functionales oxygenium continentes in atomis carbonis inter strata graphiti, ita interactionem inter strata debilitans.

Oxidatio communis

Methodi includunt methodum Brodie, methodum Staudenmaier et methodum Hummers [40]. Principium est graphitum primum acido forti tractare,

Deinde oxidans forte ad oxidationem adde.

Graphitus oxidatus ultrasonis exuitur ad oxydum grapheni formandum, deinde addendo agentem reducentem reducitur ad graphenum obtinendum.

Inter agentes reducentes communes sunt hydrazinum hydratum, NaBH4 et reductio ultrasonica alcalina fortis. NaBH4 elementum B pretiosum est et facile retinetur.

Quamquam fortis reductio ultrasonica alcalina simplex et amica ambienti est, difficile est reducere *, et magna copia gregum functionalium oxygenatorum post reductionem manebit.

Quapropter, hydrazini hydras vilior plerumque adhibetur ad oxydum graphiti reducendum. Commodum reductionis hydrazini hydras est quod hydrazini hydras facultatem reductionis magnam habet et facile volatilizatur, ita nullae impuritates in producto remanebunt. In processu reductionis, quantitas idonea aquae ammoniacae plerumque additur ad facultatem reductionis hydrazini hydras augendam.

Ex altera parte, potest efficere ut superficies grapheni inter se repellant propter cargas negativas, ita agglomerationem grapheni minuens.

Praeparatio grapheni magnae scalae per oxidationem chemicam et reductionem fieri potest, et productum intermedium oxydum grapheni bonam dispersionem in aqua habet.

Facile est graphenum modificare et functionibus reddere, itaque haec methodus saepe in investigatione materiarum compositarum et accumulationis energiae adhibetur. Sed propter oxidationem...

Absentia aliquorum atomorum carbonii in processu ultrasonico et residuum gregum functionalium oxygenium continentium in processu reductionis saepe efficit ut graphenum productum plura vitia contineat, quod eius conductivitatem minuit, ita applicationem eius in campo grapheni cum requisitis qualitatis altis limitans.